正文卷 第044章 给老杨上眼药

    仓耀祖对于光刻技术的发展还是很了解的，无论是沉浸式光刻，还是极紫外光刻EUV，不过，仓耀祖手里没人啊。看来得去忽悠忽悠老杨。给老杨上上眼药。

    说到光刻技术，还不能不提英特尔，那句Intel Pentium inside的广告很牛逼啊，给电脑一颗奔腾的芯，嘿嘿，不行，还得和英特尔捣捣乱。

    仓耀祖直接找上了老杨的办公室，并不是杨崇山，他只能算小杨，老杨是清大的校长杨斯正，然后直接开撩，不对，是聊：“老杨啊，不用二十年，国内的半导体进口数值肯定会突破5000亿华夏元的规模，全球半导体产值最少会突破3万亿华夏元，这么大的盘子，咱们不能拱手让人啊，这么大的蛋糕，咱们要是只能看着却吃不着，你们清大就是国家的罪人啊。”

    “你就不是罪人吗？”

    “我当然不是了，我可不是搞半导体的。”

    “好吧，你确实不是搞半导体的。可是光刻机这一块儿可不好搞啊。人家有先发优势的，现在是市场经济，大家都是利益为先。我们这边研究出来一代光刻机，人家就把比我们更强更便宜的光刻机卖进国内来了，他们是良性循环，咱们是恶性循环。研发就陷入了无水之源，投入不起啊。企业们也都抱着造不如买，买不如租的思想，根本不想投入研发啊。”

    “老杨啊，你知道温水煮青蛙吗？咱华夏就是这只青蛙啊，等到光刻机的研发彻底断档断代，人家不卖给你了呢，不但机器不卖给你，芯片都不卖给你了呢，你应该知道，冷战啊，贸易战啊，局部战争啊，这些发生的概率是100%的，到时候，断炊的那些企业会不会戳你们清大以及华科院的脊梁骨骂娘啊。”

    “到那时候啊，我都退休了，说不定还入土了，骂也骂不到我的头上。”

    “呵呵，就算你听不到，也会把你挂在历史的耻辱柱上。趋利避害确实是企业的市场本能，可国家能和企业一样的思维吗？大学能和企业一样的思维吗？这么发展下去，咱们华夏的半导体行业就会变成一头只知道耕地的牛，鼻环却握在别人的手里，你说这事儿吓人不？”

    “别和我说这些大道理了，我懂得比你多，你小子就和我说怎么办吧，我知道你这是又要搞事情了，来，来，我老杨等着，等着你拿钱砸死我。”

    “美死你，凭什么我拿钱啊，我拿得起吗我？那5千亿，上万亿的市场又不给我，我犯不上，正所谓在其位谋其政，我既不是国家领导，又不是清大校长，让我拿钱？我拿不着啊。我啊，今天就是给你出出主意，好让你啊以后的几十年能过得问心无愧。”

    “好，好，你说吧，只要你的主意有用，我就是去求爷爷告奶奶，去作揖下跪，我都去把钱弄来。”

    “用不着，你们那么多校友呢，你看燕邮募集来多少钱了啊，你们这体量，不可能募集不来一些资金啊，先启动了再说呗，后面有国家有银行呢。要打破这个怪圈，只有两个办法，一个是国家死命砸钱根本不管怎么亏，亏一年能亏出去个5000亿吗？亏不了。这样集中力量办大事，发动能发动的一切力量，不按套路出牌，超速发展，一举追上他们。第二个办法就是等，等领先者遇到瓶颈了，他们有个坎儿很难迈过去，而你又咬紧牙关砸钱亏钱追，肯定能追上。”

    “你说得轻巧，国家现在哪儿哪儿都是窟窿，哪儿哪儿都要发展，半导体这个行业不是靠投入就能投出来的。你第二个办法更不靠谱。”

    “第一个办法要有力度，最大的力度。第二个办法还真就靠谱，他们马上就要碰到坎儿了。业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点，而157nm将成为主流技术。然而，157nm光刻技术遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。这是由于绝大多数材料都会强烈地吸收157nm的光波，所以这个就是他们的坎儿。”

    “你仔细和我说说。”

    “现在国外几家大厂都是使用DUV，也就是深紫外光，通过氟化氪KrF 准分子激光来产生波长248 nm的光，这种光刻机是现在的主流，他们实验室里现在已经基本研发完了通过氟化氩ArF准分子激光来产生波长193 nm光波的下一代光刻机，193nm光刻机没问题。但用F2准分子激光产生波长157nm的光就是个大坑了，他们过不去了，技术解决不了。瓶颈出现了，咱们追赶的机会来了。”

    “那他们的解决办法是什么？”

    “研发EUV光刻机，也就是极紫外光刻技术。极紫外光刻使用波长在13.5nm的软X射线来光刻，相当于用了一把更小、更锋利的‘刀’。极紫外光刻是5nm等更先进制程的必需工艺。但因为EUV不能穿透透镜，只能用特殊的反射镜来对焦，这样EUV的能量损失会很大，需要更长的曝光时间，会严重影响生产速度，这也就是EUV光刻机难以大规模量产的原因。因此我确信EUV光刻技术15年内完成不了原型机，20年内量产无望。”

    “你确定？”

    “我十分确定一定以及肯定。我了解到的信息是荷兰阿斯麦公司会联合花旗国的几家企业攻坚EUV这个难题，不带咱们玩，当然，他们也不代表日系厂商玩。尼康和佳能会死磕157nm光刻机，这个是死路一条，等到他们衰落下去了咱们可以联合他们在国内建厂，吸收他们的技术以后，再一起研发EUV光刻机，7nm以下的制程，DUV光刻机就不行了。”

    “等等，你说DUV光刻不能达到7nm以下？那你的意思是说DUV光刻能突破65nm，甚至28nm、14nm直至7nm？”

    “不错，能，甚至14nm，7nm都可以，但比较麻烦。”

    “怎么做？你怎么研究的？”

    “怎么研究的你就别管了。我接下来说的话你谁都不能说，包括在网络上，你看我特意找你办公室来聊，连icq都不用，你就知道问题的严重性了。”

    “有必要这么谨慎吗？”

    “当然有必要啦。此前，芯片制造工艺的更新换代是以3年为一个周期，但Intel率先将这个周期缩短为2年。Intel公司在1995年实现了0.35微米工艺量产，1997年他们会推出0.25微米产品，1999年就是0.18微米工艺，到了2001年则实现0.13微米产品的量产。英特尔在忠实地践行着摩尔定律啊。”

    “两年一个更新换代，这是要弄死AMD啊。”

    “这才好啊，这样咱们就可以拉拢AMD，对抗intel了啊。不过呢，这只可能是一个幻想罢了，英特尔、AMD和微软之间肯定是有默契的，他们会联合起来搞死其他所有人，然后他们自己再慢慢玩，但英特尔和AMD谁也不会被玩死，否则他们就涉嫌垄断了。”